2022 차세대 리소그래피 학술대회

2022 Next Generation Lithography Conference

The Next Decade Visioning for Lithography

Aug. 17 (Wed.) ~ 18 (Thu.), 2022
Suwon Convention Center, Suwon-si, Gyeonggi-do, Korea
Accompanying Event: ASML TechTalk [Aug. 19 (Fri.), 2022]
Session Track
Program at a Glance
PS1
EUV Lithography

PS1-01
EUV Phase Shift Mask 위상특성 제어를 통한 마스크 이미징 성능 향상 기술 연구
Dongmin Jeong, Yunsoo Kim, Minsun Cho, *Jinho Ahn (Hanyang University)
Abstract
PS1-02
EUV 펠리클 주름이 M3D effect와 마스크 이미징 성능에 미치는 영향에 대한 실험적 시연 
최진혁, 이동기, 김영웅, 문승찬, 위성주, *안진호 (한양대학교)
Abstract
PS1-03
EUV 펠리클의 열-기계적 물성이 critical dimension uniformity에 미치는 영향
Youngwoo Kang, Junghwan Kim, *Jinho Ahn (Hanyang University)
Abstract
PS1-04
패턴 품질 및 수율을 고려한 최적의 high NA 용 EUV mask 구조 제시
Jang-Gun Park, Min-Woo Kim, Da-kyung Yu, *Hye-keun Oh (한양대학교(에리카캠퍼스))
Abstract
PS1-05
오염 입자의 충돌에 의한 EUV pellicle의 기계적 안정성 평가
Ji-Hyun Jeon, Ji-Won Kang, Won-Young Choi, Hee-Chang Ko, Ji-Hyun Lee, *Hye-Keun Oh (Hanyang University)
Abstract
PS1-06
High-performance EUV lighting with C- beam irradiation technique
Bishwa Chandra Adhikari, Sung Tae Yoo, *Kyu Chang Park (Kyung Hee University)
Abstract